目前研究最多的氧化物環(huán)氧板材料界面層是既抗氧化又具有類似PyC或BN層狀結(jié)構(gòu)的氧化物界面層。這樣的界面層主要有云母、尖晶石和鈣鈦礦三類。云母類層狀氧化物包括硅 酸鉀云母(KMg2.sSi,O1o F2)和氟石金云母(KMg3 AISi3O1oF2)等，主要問題是易與當(dāng)前可用纖維和基體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。尖晶石類層狀氧化物主要成分為鎂鋁氧化物，與氧化鋁是相容的。鈣鈦礦類層狀氧化物作為環(huán)氧板界面層的研究較晚，主要包括鈮酸鈣鉀(KCa2Nb:O1o)和鈦酸釹鋇(BaNd2Tis O1)。

高表面能成表面惰性氧化物與增強(qiáng)體成基體成兩者之間都存在弱界面,這種高能界面稱 為非層狀弱結(jié)合氧化物界面。典型的高能氧化物有稀土磷酸鹽(M+ PO4,M代表某種稀土元素)和難熔金屬鹽(ABO,,A,B分別代表某種難熔金屬)。

制備氧化物界面層時存在主要的問題是如何獲得精確的化學(xué)計量比。CVD技術(shù)雖然可以制備連續(xù)、致密且均勻的界而層,但該方法卻很難控制界而層的化學(xué)計量比。溶膠-凝膠技術(shù)則允許精確控制界面層的化學(xué)計量比，但傳統(tǒng)溶膠凝膠技術(shù)難以制備連續(xù)、致密且均勻的界面層。因此，環(huán)氧板氧化物界面層制備時通常見以溶膠凝膠為基礎(chǔ)的改進(jìn)方法，如不混合溶膠-凝膠界面層技術(shù)，雜凝聚技術(shù)等。

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